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フォトマスク 電子部品製造の基幹技術 [ 田辺功 ]

   

 


 

 


電子部品製造の基幹技術 田辺功 竹花洋一 東京電機大学出版局フォトマスク タナベ,イサオ タケハナ,ヨウイチ 発行年月:2011年04月 ページ数:323p サイズ:単行本 ISBN:9784501328207 田邉功(タナベイサオ) 1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻(現情報画像工学科)卒業。

1961ー81年(株)日立製作所:カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(武蔵工場マスク課長)。

1981ー89年HOYA(株):LSI、FPD用フォトマスクの事業化(八王子工場長)。

1989ー93年HOYA Micro Mask Inc.:LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発(EVP&CTO) 竹花洋一(タケハナヨウイチ) 1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻(修士)卒業。

1969ー90年(株)日立製作所:計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産(デバイス開発センター主任技師)。

1990ー99年HOYA(株)八王子工場:LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産(八王子工場長)。

1994ー2001年PMJ実行委員。

1999ー2004年HOYA(株)R&Dセンター:次世代マスクの技術開発(担当部長) 法元盛久(ホウガモリヒサ) 1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。

1974ー2000年(株)日立製作所:半導体用フォトマスクの技術開発、生産(マスクセンター長)。

1994ー2006年PMJ論文委員(2005ー06年論文委員長)。

2000ー02年大日本印刷(株)電子デバイス研究所:半導体用フォトマスクの技術開発(主席研究員)。

2002年〜現在、大日本印刷(株)研究開発センター:次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発(プロジェクトリーダー)(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです) 第1章 フォトマスク技術の基本/第2章 半導体用フォトマスク/第3章 電子部品用マスク/第4章 先端フォトマスク技術/第5章 NGLマスク技術/第6章 マスク産業の現状/第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し 本 科学・技術 工学 電気工学

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