フォトマスク 電子部品製造の基幹技術 [ 田辺功 ]
電子部品製造の基幹技術 田辺功 竹花洋一 東京電機大学出版局フォトマスク タナベ,イサオ タケハナ,ヨウイチ 発行年月：2011年04月 ページ数：323p サイズ：単行本 ISBN：9784501328207 田邉功（タナベイサオ） 1961年千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻（現情報画像工学科）卒業。
1961ー81年（株）日立製作所：カラーTV用シャドウマスク、IC、LSI用フォトマスクの技術開発、生産（武蔵工場マスク課長）。
1981ー89年HOYA（株）：LSI、FPD用フォトマスクの事業化（八王子工場長）。
1989ー93年HOYA Micro Mask Inc．：LSI用フォトマスク、新型プローブカードの技術開発（EVP＆CTO） 竹花洋一（タケハナヨウイチ） 1969年大阪大学大学院理学研究科無機・物理化学専攻（修士）卒業。
1969ー90年（株）日立製作所：計測装置の技術開発、LSI用フォトマスクの技術開発、生産（デバイス開発センター主任技師）。
1990ー99年HOYA（株）八王子工場：LSI、FPD用フォトマスクの技術開発、生産（八王子工場長）。
1994ー2001年PMJ実行委員。
1999ー2004年HOYA（株）R＆Dセンター：次世代マスクの技術開発（担当部長） 法元盛久（ホウガモリヒサ） 1974年早稲田大学理工学部物理学科卒業。
1974ー2000年（株）日立製作所：半導体用フォトマスクの技術開発、生産（マスクセンター長）。
1994ー2006年PMJ論文委員（2005ー06年論文委員長）。
2000ー02年大日本印刷（株）電子デバイス研究所：半導体用フォトマスクの技術開発（主席研究員）。
2002年〜現在、大日本印刷（株）研究開発センター：次世代マスクおよびナノインプリントの技術開発（プロジェクトリーダー）（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです） 第1章 フォトマスク技術の基本／第2章 半導体用フォトマスク／第3章 電子部品用マスク／第4章 先端フォトマスク技術／第5章 NGLマスク技術／第6章 マスク産業の現状／第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し 本 科学・技術 工学 電気工学
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